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PECVD类金刚石薄膜沉积设备
更新：2016-10-19 16:52:08 点击：
- 品牌 TENSTAR
- 型号 DLC-700
- 描述
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产品介绍
PECVD类金刚石薄膜沉积设备
概述
该设备可在锗,硅,硒化锌,硫化锌基底上镀制高透射率的DLC膜层,可镀膜零件,∮300左右平面零件,也可根据客户要求设计.设备结构设计合理,使用操作,维护及维修方便,噪音低,可靠性高,且安全性能好,外型美观和价格合理.
详细参数1.组成:设备由优质不锈钢真空室,涡轮分子泵高真空抽气系统,水冷沉积靶及RF射频源,烘烤及控制系统,高精度气体输入系统.
镀膜过程控制系统(沉积系统)等部件组成.
2.功能:真空室内部不小于∮700X500可镀膜零件最大尺寸<∮400平面零件,可通热水与冷水的铜靶或不锈钢水循环系统 .
真空抽气系统为无油高真空抽气系统,低真空泵为直联泵,阀门,真空规管等具有防腐蚀功能.其中高阀为高精度电动高阀,预抽阀与粗抽阀为气动阀.
3.烘烤及温控：石英管加热或陶瓷加热,最高温度≥300度可调.
4.水冷沉积靶及射频电源：水冷阴极靶由无氧铜制造,内通循环冷却水,可连续转动,速度可调.
5.气体馈入及控制系统：四路四显进口流量计,工控机操作控制流量计,可控制充气比例及真空室压强.流量0~300ccm/s可调.
5.极限真空度：1.2X10-4Pa
6.恢复真空度：8X10-4Pa≤45min
7.分子泵F-250 直联泵卧式顶盖升降
8.内腔尺寸：∮700X500mm
9.进口射频电源
10.进口四路四显质量流量计
11.靶向距离可以调节（范围200±100mm）
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