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真空镀膜机

类别:行业新闻   发布时间:2020-04-02 08:33   浏览:

主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
厚度均匀性主要取决于:
1。基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3. 蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小。
组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性:
1。晶格匹配度
2。 基片温度
3。蒸发速率
溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。