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真空镀膜-考夫曼离子源

类别:行业新闻   发布时间:2019-09-27 11:17   浏览:

        考夫曼离子源,既可在较低能量下用于一般光学薄膜的辅助镀膜,如氧化物、非氧化物薄膜;又能在较高能量下用于制备特殊光学及其它用途的薄膜,如金属薄膜和半导体薄膜;还可以进行薄膜减薄以及表面抛光、清洗、刻蚀等。该离子源离子束流的参数灵活可调,只需调节电参量就可以适应不同的工艺要求。
        考夫曼离子源电源采用大功率工频电源设计。具有输出功率大,重量轻的特点。该电源具有过压、过流、过热、短路,防冲击等完善的保护电路。优化的屏极电源设计,使离子束流能量更大。宽电压稳压电源及闭环控制使离子束流更稳定。
        优化参数后,可获得能量单一的离子束。离子束流及离子能量连续精确可调。离子能量可调节范围广、适用范围宽。相比等离子体源及无栅离子源,可获得更高的离子能量。